Obiektyw FUJINON XF charakteryzuje się zaawansowaną konstrukcją optyczną, która pozwala maksymalnie wykorzystać wysoki potencjał rejestrowania obrazu matrycy "X-Trans CMOS Sensor" stosowanej w aparatach fotograficznych FUJIFILM X-Pro1 oraz X-E1. 

Nowy obiektyw FUJINON XF 55-200 mm tworzy ostre obrazy w całym zakresie zoomu, zapewniając właściwą rozdzielczość aż do narożników kadru.  Jasność obiektywu f/3,5-4,8 ułatwia rejestrowanie scen wymagających krótkich czasów migawki.  Zastosowana stabilizacja obrazu umożliwia korzystanie z czasów migawki, wydłużonych o 4,5 EV, zapobiegając efektom poruszenia aparatu nawet przy fotografowaniu z dłuższym czasem migawki bądź przy przymkniętej przysłonie.  Co więcej, konstrukcja obiektywu obejmuje dwa liniowe silniki, zapewniające prędkość AF wynoszącą 0,28 sekundy*1, dzięki czemu ostrość jest natychmiast ustawiana na fotografowanym obiekcie.

• Zbudowany w oparciu o zaawansowaną konstrukcję optyczną, aby pokryć zakres od średniego telefoto (84 mm*2) do teleobiektywu (305 mm*2) i zapewnić, niezależnie od swych kompaktowych wymiarów, znaczną jasność f/3,5-4,8, obiektyw ten oferuje zarówno mobilność jak i wysoki potencjał obrazowania.

• Stabilizacja optyczna pozwala na stosowanie czasów migawki o 4,5 EV dłuższych; zapewnia ona detekcję różnorodnych drgań aparatu, począwszy od niskich aż do wysokich częstotliwości, zapewniając ich zaawansowaną korekcję

• Obiektyw wykorzystuje silniki liniowe, zapewniające wysoką prędkość AF oraz ciche działanie, dzięki czemu jest on odpowiedni także dla filmowania

• Obiektyw posiada w swej konstrukcji dwie soczewki ED, w tym jedną Super ED, które dzięki swej sprawności optycznej stanowią odpowiednik soczewek fluorytowych; wprowadzone rozwiązanie kontroluje aberrację chromatyczną, efekt, który jest typowy dla obiektywów o długiej ogniskowej, zapewniając w całym zakresie zoomu obraz charakteryzujący się odpowiednio wysoką rozdzielczością aż do samych narożników kadru

• Zastosowanie opracowanych przez FUJINON powłok "HT-EBC Coating" na całej powierzchni soczewek skutecznie zapobiega refleksjom światła i pozwala kontrolować efekty duszków i poświaty

• Obiektyw oferuje minimalny zakres pracy od około 1,1 m w całym zakresie zoomu, co pozwala na korzystanie ze zbliżeń telefoto i uchwycenie w kadrze niewielkich fragmentów obiektu

• Obiektyw dysponuje pierścieniem regulacji przysłony w krokach co 1/3 EV, dzięki czemu użytkownik może łatwo ustawić wartość przysłony nie odrywając aparatu od oka

• Pierścień regulacji ostrości oraz pierścień przysłony zostały wykonane z metalu, i poza wytrzymałością i solidnością wykonania, sprawiają, że fotografujący ma poczucie obcowania z wysokiej jakości instrumentem optycznym

Nowy Firmware przyspieszy pracę autofocusa w aparatach X-Pro1 oraz X-E1

Razem z wprowadzeniem obiektywu XF 55-200 mm f/3,5-4,8 R LM, Fujifilm udostępniło upgrade firmware’u aparatów X-Pro1 oraz X-E1.  Dzięki nowym algorytmom firmware maksymalizuje zalety obiektywu sprawiając, że aparat szybciej obsługuje AF oparty na detekcji kontrastu w całym zakresie ogniskowych współpracującego z nim obiektywu. Prędkość ustawiania ostrości będzie wynosiła 0,7 s, nawet jeśli przeszukiwanie ostrości będzie odbywało się od nieskończoności do minimalnego zakresu fotografowania dla najdłuższej dostępnej ogniskowej tele.

Poprzez upgrade firmware’u do nowej wersji, poprawiona zostanie także prędkość AF przy współpracy aparatów X-Pro1 oraz X-E1 z innymi obiektywami z serii XF. *3

Firmware będzie dostępny do pobrania ze stron internetowych w momencie wprowadzania na rynek obiektywu XF 55-200 mm f/3,5-4,8 R LM.

*1 w oparciu o standardy CIPA

*2 ekwiwalent formatu małoobrazkowego

*3 Potrzebna jest aktualizacja firmware’u innych obiektywów poza XF55-200 mm f/3,5-4,8 R LM OIS.

Firmware obiektywu będzie dostępny począwszy od lipca 2013.

inf. prasowa Fujifilm